ZEISS Crossbeam
Zielgerichtet in die dritte Dimension
Die Kombination aus Rasterelektronenmikroskop (REM) und fokussiertem Ionenstrahl (FIB) erlaubt es, auf kleinster Skala im Nanometerbereich gezielt in Material hineinzuschneiden und die Materialstruktur unterhalb der Oberfläche direkt abzubilden. Zu den typischen Anwendungen gehören die präzise Lokalisierung und chemische Analyse (EDX) von lokalen Defekten.
ZEISS Crossbeam für die Industrie
Erleben Sie eine neue Qualität bei der Prüfung Ihrer Proben.
Bereiten Sie dünne Lamellen für die Analyse im Transmissionselektronenmikroskop (TEM) oder Rastertransmissionselektronenmikroskop (STEM) vor. ZEISS Crossbeam bietet eine umfassende Lösung für die Präparation von TEM-Lamellen, auch für Probensätze.
Durch die beeindruckende Leistung der Ion-sculptor FIB-Säule erhalten Sie schon bei geringer Spannung qualitativ hochwertige Lamellen, ohne dass es bei empfindlichen Proben zur Amorphisierung kommt. Verwenden Sie zu Beginn einen einfachen Workflow und warten Sie auf die automatische Ausführung. Profitieren Sie von einer Endpunktdetektionssoftware, die korrekte Informationen zur Dicke Ihrer Lamellen liefert.
Der optionale Femtosekundenlaser wird für den Materialabtrag und den verbesserten Zugang zu tieferen Strukturen sowie für die Präparation von großen Proben eingesetzt.
Anwendungsfelder auf einen Blick
- Lokale Querschnitte, z. B. an Defektstellen (Wachstumsdefekte dünner Schichten, Korrosion, eingeschlossene Partikel usw.)
- TEM-Lamellen-Präparation
- Hochaufgelöste Querschnittsuntersuchungen in Transmission (STEM)
- 3D-Tomographie der Mikrostruktur oder von lokalen Defekten
- Freilegen von Strukturen durch gezielten Materialabtrag