30 Jahre AIMS® – der Industriestandard für die Maskenqualifizierung

Die Photomaske ist ein entscheidender Bestandteil im Lithographie-Prozess zur Fertigung von Mikrochips – sie trägt das Chipdesign in Form von transparenten bzw. undurchsichtigen Bereichen, das von der Maske auf den Wafer projiziert wird. Für die Fertigung eines Chips werden bis zu einhundert Masken benötigt. Die Maskenherstellung ist eine technologische Herausforderung und erfordert höchste Präzision im Nanometer-Bereich.

Jeder kritische Maskendefekt findet sich unweigerlich auf dem belichteten Wafer wieder und verursacht immense Folgekosten. Eine fehlerfreie Maske ist also Grundvoraussetzung für eine wirtschaftliche und nachhaltige Mikrochip-Produktion. Deshalb ist es von besonderer Bedeutung, jeden Defekt bereits vor dem Einsatz der Maske zu entdecken und hinsichtlich seiner Auswirkungen im weiteren Lithographie-Prozess zu bewerten. Dafür braucht es nanometergenaue Präzision.
 

Das erste ZEISS AIMS-System wurde 1993 ausgeliefert; die Plattform feiert damit dieses Jahr ihr 30-jähriges Jubiläum. Heute sind die Systeme integraler Bestandteil des Maskenherstellungsprozesses und garantieren die Lieferung fehlerfreier Masken an die Wafer-Fabriken weltweit. AIMS® wird seit seiner Einführung kontinuierlich weiterentwickelt – basierend auf dem jeweils aktuellen Stand der Forschung und ausgerichtet auf die wechselnden Entwicklungen und Anforderungen des Halbleitermarktes. Auch die Automatisierung des Systems wird weiter vorangetrieben – beispielsweise auf Basis von AIMS® Auto Analysis sowie durch die Vernetzung mit anderen Systemen wie dem Maskenreparatursystem MeRiT® über das Advanced Repair Center. Auf die nächsten 30 Jahre defektfreie Photomasken für die Mikrochips der Zukunft.