Einblick in den Herstellungsprozess der Lithographie-Technologien von ZEISS SMT
Inspiring Technology

Das Licht fürs digitale Zeitalter Mit höchster Präzision und SMT Technologie für die Digitalisierung

Heute Technologien von Morgen ermöglichen

Unser Alltag wird immer digitaler: Datenübertragung in Rekordzeit per Glasfaser und 5G, entspannter von A nach B mit autonom fahrenden Autos, schneller bessere Ergebnisse dank künstlicher Intelligenz... All das stellt enorme Ansprüche an die Rechenkapazität und Leistungsfähigkeit von IT-Systemen – und die Halbleiterindustrie vor die Herausforderung, immer kleinere, leistungsfähigere und energieeffizientere Computerchips herzustellen. ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) stellt sich dieser Herausforderung. Wir befähigen die Chiphersteller weltweit. Mit hochpräzisen Optiken im Nanometerbereich für die Halbleiterfertigung, für die Technologie von Morgen, für die Digitalisierung unseres Alltags.

Herzschlag der Digitalisierung

Tauchen Sie jetzt ein in die Faszination der SMT-Welt

Anfänge der Digitalisierung

Supercomputer "Cray 1"

Zwei Menschen stehen neden dem großen Supercomputer "Cray 1"

Supercomputer passt heute in die Hosentasche

Springen wir zurück ins Jahr 1976. „Cray 1“ – der erste Supercomputer so groß wie ein Auto mit einem Gewicht von 5,5 Tonnen – konnte 160 Millionen mathematische Operationen pro Sekunde lösen. Für damalige Verhältnisse High-Speed. Moderne Smartphones schaffen locker das Hundertfache – Tendenz steigend. Der Supercomputer von damals passt heute in die Hosentasche – auch dank der optischen Lithographie-Systeme von ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology.

Moore´s Law

Taktgeber der Digitalisierung

1965 – elf Jahre vor „Cray 1" – erschien in der Zeitschrift „Electronics“ ein Artikel des Intel-Mitbegründers Gordon Moore. Seine Aussage zur zukünftigen Entwicklung von Speicherbausteinen auf Basis von Transistoren wurde bekannt als Moore's Law:

Porträtbild von Gordon Moore

Die Anzahl an Transistoren, die in einen integrierten Schaltkreis festgelegter Größe passen, verdoppelt sich etwa alle zwei Jahre.

Moore's Law, nach Gordon Moore, Mitbegründer von Intel

Moore´s Law lebt weiter

Mehr als ein halbes Jahrhundert später wird Moore‘s Law fortgeschrieben – und ein Ende ist noch nicht in Sicht. ZEISS ist Taktgeber, wenn es darum geht, die Grenzen des technologisch Machbaren immer weiter zu verschieben und das Gesetz von Gordon Moore weiterzuschreiben.

Ein Laserstrahl zeigt Strukturen eines Mikrochips auf

Push the limits

Am Anfang ist das Licht. Am Ende die Technologie der Zukunft.

Präzise Optiken und Innovationen stecken seit der Gründung 1846 in der DNA von ZEISS. Unsere Technik steckt in Mikroskopen, Kameras und medizinischen Geräten auf der ganzen Welt. Oft gar nicht auf den ersten Blick sichtbar. Wenn Sie diesen Text gerade auf einem modernen Smartphone lesen, sind die Mikrochips darin wahrscheinlich mit Optiken von ZEISS SMT entstanden. Denn rund 80 Prozent aller Mikrochips weltweit werden mit Lithographie-Systemen unseres strategischen Partners ASML und den Optiken von ZEISS SMT hergestellt.

Mikrochips mit ihren Strukturen auf einer Leiterplatte angeordnet

Optische Lithographie

Aus vielen „Sandkörnern“ werden in einem hochpräzisen Verfahren Mikrochips. Die Hauptakteure dabei: Licht, Silizium-Wafer und die präzisesten Spiegel der Welt in den Projektionsoptiken zur Halbleiter-Herstellung von ZEISS SMT.

Mitarbeitende arbeiten im Reinraum an einem DUV-Produkt der ZEISS SMT

Auflösung und Präzision

Mit Wellenlängen im Bereich des "deep ultraviolet light" (DUV-Licht) von 365, 248 und 193 Nanometern entstehen Mikrochips mit der DUV-Technologie.

Ein Mitarbeiter arbeitet an einem EUV-Beleuchtungssystem der ZEISS SMT

Der nächste SMT Technologiesprung

Extrem ultraviolettes Licht – mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern und präziser Ausrichtung durch Mirrorblocks. EUV ist der nächste Technologiesprung in der optischen Lithographie.

Zwei Mitarbeitende arbeiten im dunklen Reinraum bei der ZEISS SMT mit Lichtquellen an der High-NA-EUV-Lithographie

Mehr Licht für noch mehr Details

Mit der Weiterentwicklung der EUV-Lithographie zur High-NA-EUV-Lithographie wird die Zahl der optisch abbildbaren Strukturen auf einem Mikrochip verdreifacht. Die Grundlage, um Moore’s Law auch über das Jahr 2030 hinaus fortzuschreiben.


 

Eine Person hält eine Weltkugel in der Hand und erhält Einblicke in den Markt der Halbleitertechnologie

Gemeinsam stark

ZEISS SMT arbeitet mit einem starken Netzwerk aus mehr als 1.200 Partnern. Mit dem niederländischen und weltweit größten Hersteller von Wafersteppern und Waferscannern ASML besteht eine strategische Partnerschaft.

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